“ 以前はIntelの半導体プロセス部門にいたこともあるThompson教授は，多分，1000人以上の開発者を必要としたとの見解で，他社を5年くらいリードしているとみています。Tri-gateの開発は90nm世代の歪技術や45nm世代のHigh-K，Metal gateと比較して1ケタ以上複雑な技術開発で，（開発のための実験には）数10万枚のウエファを必要としただろうと述べています。
最近の話題 2011年5月21日 物量で差がついてるな
